Fájl:Oxygen Plasma Cleaning.JPG
Ugrás a navigációhoz
Ugrás a kereséshez
Az előnézet mérete: 450 × 600 képpont További felbontások: 180 × 240 képpont | 360 × 480 képpont | 576 × 768 képpont | 768 × 1 024 képpont | 1 536 × 2 048 képpont | 2 592 × 3 456 képpont.
Eredeti fájl (2 592 × 3 456 képpont, fájlméret: 4,02 MB, MIME-típus: image/jpeg)
Összefoglaló
| Leírás |
English: The surface of a MEMS device is cleaned with bright, blue Oxygen Plasma in a Plasma Etcher to rid it of carbon contaminants. (100mTorr, 50W RF) |
| Dátum | |
| Forrás | A feltöltő saját munkája |
| Szerző | Maxfisch |
Maboudian Lab, UC Berkeley
Licenc
 
|
Ez a fájl a Creative Commons CC0 1.0 Univerzális Közkincs nyilatkozat alapján használható fel. |
| Az a személy, aki ezen nyilatkozat hatálya alá helyezett egy művet, az egész világon lemondott minden, a szerzői jogi törvény szerinti műhöz fűződő jogáról, beleértve az összes kapcsolódó és szomszédos jogot is, a jogszabályokban megengedett mértékig. Ezzel a művet közkinccsé nyilvánította. Ezt a művet szabadon másolhatod, módosíthatod, terjesztheted vagy előadhatod, akár üzleti célból is, mindezt anélkül hogy engedélyt kellene kérned.
|
Fájltörténet
Kattints egy időpontra, hogy a fájl akkori állapotát láthasd.
| Dátum/idő | Bélyegkép | Felbontás | Feltöltő | Megjegyzés | |
|---|---|---|---|---|---|
| aktuális | 2010. július 17., 00:21 | | 2 592 × 3 456 (4,02 MB) | wikimediacommons>Maxfisch | {{Information |Description={{en|1=The surface of a MEMS device is cleaned with bright, blue Oxygen Plasma in a Plasma Etcher to rid it of carbon contaminants. (100mTorr, 50W RF)}} |Source={{own}} |Author=Maxfisch |Date=2010-07-15 |Permi |
Fájlhasználat
Az alábbi lap használja ezt a fájlt:
